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UV光解氧化設(shè)備
設(shè)備概述
1）特定波段（253.7nm）的紫外線對惡臭氣體的分子鏈進行分解，將其大分子結(jié)構(gòu)打碎變成小分子結(jié)構(gòu)。
2）特定波段（185nm）波段的紫外線使空氣中的氧分子產(chǎn)生游離態(tài)的氧，即活性氧。因游離氧所攜正負電子不平衡，所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。
3）在催化劑（TiO２）的作用下，臭氧將打碎的惡臭氣體分子氧化成CO2和H2O等無機物。
惡臭氣體利用排風設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物，水和二氧化碳，在通過排風管道排出室外。
利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌分子鏈，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，達到脫臭滅殺細菌的目的。能效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫1化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率超高可達99%以上，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。
uv光解設(shè)備效率較高，除購買設(shè)備的費用之外，整個處理廢氣的過程不需要再花錢。uv光解設(shè)備能高1效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化1氫、氨氣、硫醇類等主要污染物以及各種惡臭味。效率較高可達99%以上，脫臭效果大大超過國家的標準。uv光解設(shè)備對于工作條件要求非常低，操作簡單。對惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間、濕度在30%－98%、PH值在2-13之間均可正常工作。只需僅耗電約0。2度電能），設(shè)備風阻極低<50pa，可節(jié)約大量排風動力能耗。并且uv光解設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
光氧化是常溫下深度光降解技術(shù)。該技術(shù)通過特定波長的UV激發(fā)光源產(chǎn)生不同能量的Light quantum；廢氣物質(zhì)對該Light quantum的強烈吸收，在大量攜能Light quantum的轟擊下使廢氣物質(zhì)分子解離和激發(fā)；空氣中的氧氣和水分及外加的臭氧在該Light quantum的（分解）作用下可產(chǎn)生大量的新生態(tài)氫、活性（游離）氧和羥基氧等活性基團。因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧，臭氧對紫外線光束照射分解后的有機物具有極強的氧化作用；部分廢氣物質(zhì)也能與活性基團反應(yīng)，終降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、CO2和H2O 等無害物質(zhì)，從而達到凈化廢氣的目的。
以上信息由專業(yè)從事UV光解設(shè)備售后的清藍環(huán)保于2025/1/6 22:21:55發(fā)布
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