四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲4烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用。四氟化碳有時會用作低溫冷卻劑。它可用于電路板的制造，以及制造絕緣物質和半導體。它是用作氣體蝕刻劑及等離子體蝕刻版。預先稱取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的單質硅粉，置于鎳盤中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤放入蒙乃爾合金反應管中，向反應管內通入氟氣，氟氣先和單質硅反應。
四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內，小白鼠仍可安全脫險。隨著芯片制程向7納米邁進，細微雜質對芯片的損害更為明顯，電子產業(yè)對高純電子氣體的純度要求進一步提高，在此背景下，我國高純四氟化碳生產技術與產品質量仍有提升空間。是微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體，高純氣高純氧的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
高純四氟化碳是純度在99.999%以上的四氟化碳產品，是一種無色無味氣體。高純四氟化碳不可燃燒，在常溫常壓條件下化學性質穩(wěn)定，在密閉容器中遇高熱有危險，不溶于水，可溶于苯、等部分溶劑。常溫常壓下穩(wěn)定，避免強氧化劑、可燃物。不燃氣體，遇高熱后容器內壓增大，有開裂、炸危險?；瘜W性質穩(wěn)定，不燃。常溫下只有液氨-試劑能發(fā)生作用。高純四氟化碳在常溫常壓條件下化學性質穩(wěn)定，高純四氟化碳是一種高純電子氣體，在電子產業(yè)中需求量大。
在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，經精餾而得成品。四氟化碳（CF4）在電離后會產生含成分的刻蝕性氣相等離子體，能夠對各種有機表面實現刻蝕及有機物去除，在晶圓制造、線路板制造、太陽能電池板制造等行業(yè)中被廣泛應用。在全球范圍內，高純度四氟化碳應用于歐洲、亞太地區(qū)、北美、中東、非洲和南美洲等地區(qū)，受電子產業(yè)發(fā)展程度不同影響，對于高純度四氟化碳的需求也不同，亞洲地區(qū)由于電子產業(yè)發(fā)展落后，近幾年電子電器行業(yè)處于快速發(fā)展狀態(tài)，因此使得該地區(qū)的高純度四氟化碳消費量持續(xù)攀升。
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