頂旭桌面微型光刻機(jī)，專為微米級(jí)圖案制作而設(shè)計(jì)，旨在保障卓yue的圖形轉(zhuǎn)移精度。設(shè)備采用紫外LED冷光源，結(jié)合雙非球面石英透鏡，可生成半角＜2°的平行光，相較傳統(tǒng)接觸式曝光機(jī)，其極zhi緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精zhun。
頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè)，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案
技術(shù)參數(shù)
曝光光源：紫外LED光源波長(zhǎng)：365nm;
曝光面積：4英寸、6英寸可選；
曝光方式：?jiǎn)蚊娼佑|式定時(shí)曝光；
曝光分辨率：2um；
曝光強(qiáng)度：20~200mW/cm2可調(diào)；
曝光不均勻性：≤5%；
光源平行性：≤2°；
光源壽命：≥20000h；
電源輸入：AC220V±10V，50HZ
功率：250W
重量：25kg
外形尺寸：382（長(zhǎng)）*371（寬）*435（高）
工作環(huán)境：溫度0℃-40 ℃，相對(duì)濕度＜80 %
頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè)，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等quan面的微流控解決方案。公司團(tuán)隊(duì)擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)積累，持續(xù)將專ye知識(shí)與創(chuàng)新思維相結(jié)合，為客戶提供高pin質(zhì)的解決方案。
腦芯片如何定制使用方法該設(shè)備操作簡(jiǎn)單，易于上手，具體操作如下：
一、曝光前準(zhǔn)備工作
1、硅片處理：確保待曝光硅片經(jīng)過(guò)勻膠處理，表面干凈平整，沒(méi)有明顯的污漬或破損。
2、選擇光刻板：根據(jù)項(xiàng)目需要，選擇合適尺寸的光刻板，本設(shè)備兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、設(shè)備檢查：仔細(xì)檢查設(shè)備，確保所有部件處于正常工作狀態(tài)，確保操作環(huán)境良好。
頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè)，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案。
生物芯片如何安裝曝光操作步驟
1、安裝硅片：將待曝光硅片平放在設(shè)備的載臺(tái)上，確保位置準(zhǔn)確。
2、放置光刻板：將光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平穩(wěn)。
3、設(shè)定曝光參數(shù)：使用控制面板設(shè)置曝光時(shí)間和強(qiáng)度，根據(jù)具體需求進(jìn)行調(diào)整。
4、啟動(dòng)曝光：確認(rèn)參數(shù)設(shè)定無(wú)誤后，點(diǎn)擊啟動(dòng)按鈕，設(shè)備將開(kāi)始進(jìn)行曝光。
5、監(jiān)控曝光過(guò)程：在曝光過(guò)程中，您可以通過(guò)設(shè)備界面監(jiān)控曝光進(jìn)度，確保一切順利進(jìn)行。
6、曝光完成：曝光結(jié)束后，設(shè)備會(huì)發(fā)出提示，取出硅片和光刻板。
以上信息由專業(yè)從事桌面光刻機(jī)優(yōu)勢(shì)的頂旭于2025/1/15 21:47:33發(fā)布
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